Camera bianca semiconduttori.
L'industria elettronica e dei semiconduttori impone i requisiti di purezza più estremi del mercato. La manipolazione di wafer, il soffiaggio antistatico, le camere inerti per il processo di incisione o packaging richiedono aria e azoto totalmente esenti da particelle (classe ISO 14644 5-7) con punto di rugiada molto basso.
Cosa va risolto.
- 01Raggiungere purezza di particelle inferiore a 0,01 µm su aria compressa e azoto tecnico, conforme a SEMI F e ISO 8573-1 classe 0.
- 02Garantire disponibilità totale del sistema — un arresto non pianificato su una linea di incisione può costare diverse centinaia di migliaia di euro l'ora.
- 03Produrre azoto in loco a purezza 99,999 % con costo totale di possesso inferiore alla consegna in bombole o sfuso.
Un esempio concreto.
Una fonderia semiconduttori in classe ISO 6 installa un generatore d'azoto CZ-N2-PSA-100 che produce 100 Nm³/h al 99,999 % di purezza, abbinato a un compressore CZ-SLT-75V a vite oil-free come fonte d'aria di spurgo. Il ROI rispetto alla consegna in bombole è ottenuto in 16 mesi. Tre stadi di filtrazione ISO 8573-1 classe 0 e un essiccatore ad adsorbimento a −70 °C garantiscono le specifiche wafer.
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