REF · 006-ELEC04 / Elektronik
Halbleiter-Reinraum.
Die Elektronik- und Halbleiterindustrie stellt die extremsten Reinheitsanforderungen am Markt. Wafer-Handling, antistatisches Blasen, inerte Kammern für Ätzen oder Packaging erfordern Luft und Stickstoff vollständig partikelfrei (ISO 14644 Klasse 5 bis 7) mit extrem niedrigem Taupunkt.
Technische Herausforderungen
Was gelöst werden muss.
- 01Eine Partikelreinheit unter 0,01 µm bei Druckluft und technischem Stickstoff erreichen, gemäß SEMI F und ISO 8573-1 Klasse 0.
- 02Totale Systemverfügbarkeit garantieren - ein ungeplanter Stillstand auf einer Ätzlinie kann mehrere Hunderttausend Euro pro Stunde kosten.
- 03Stickstoff vor Ort mit 99,999 % Reinheit erzeugen, mit Gesamtbetriebskosten unter Flaschen- oder Tanklieferung.
CEZIUM-Technologien
Unsere technische Antwort.
Kombination von CEZIUM-Maschinen, dimensioniert für diesen Prozess. Technische Details im Vertriebspaket.
PSA-N₂-Generator
Adsorption −70 °C
Klasse 0 Filtration
Normen & Zertifizierungen
Geltende Normen.
ISO 8573-1 Cl. 0TÜV Classe 0CE
Konformitäten werden im Einzelfall je nach gewähltem Modell und Auditumfang geprüft. Vollständige Dokumentation mit jeder Maschine geliefert.
REF · 006-XNächster Schritt
Beschreiben Sie Ihren Prozess. Wir schlagen die passende Maschinenkombination vor.
Antwort unseres Technikteams binnen 24 Werkstunden. Kostenlose Vorstudie inkl. Auslegung und Budgetschätzung.